2025年6月20-22日，2025高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议在西北师范大学召开。会议由中国机械工程学学会表面工程分会主办，西北师范大学和兰州资源环境职业技术大学承办。参会嘉宾共话HiPIMS技术的发展与未来，现场吸引了来自全国各高校和企业近200位行业内人士，我院院长侯伟、副院长冉曙、专职教师马巍参加会议。
在此次专题会议上，学校党委副书记、副校长李文生作为大会组织委员会主席，做了题为《苛刻工况薄膜图层复配设计与使用损伤机制》的报告。来自哈尔滨工业大学的田修波教授做了题为《高功率脉冲磁控放电源及超疏（亲）水涂层制备》的报告。与会学者通过学习行业前沿和学术交流，相互分享了在科研过程中遇到的实际问题及解决方案。
通过此次会议我们学习了解到：以高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术，可以明显提高薄膜结构可控性，进而获得优异的薄膜性能，在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。
撰稿：赵国宏 一审：冉曙 二审：侯伟
